實驗室**純水機設備的反滲透膜多久更換一次？

時間：2024-12-04

作者：山東洰騰環保設備有限公司

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詞條
詞條說明
EDI純水設備適用范圍
電子工業領域半導體制造：在半導體芯片的生產過程中，幾乎每一個環節都需要高純度的水。從硅片的清洗，到光刻、蝕刻等工藝，都要求水中幾乎不含任何雜質。EDI 純水設備所生產的高純度水（電阻率可達 18.2MΩ?cm 以上）可以有效地避免水中的離子、有機物和微生物對芯片制造過程產生影響，確保芯片的性能和質量。例如，在光刻工藝中，哪怕是微小的顆粒雜質也可能導致芯片線路出現缺陷，而 EDI 純水能夠為光刻膠的
實驗室超純水機設備的反滲透膜多久更換一次？
實驗室超純水機設備中反滲透膜的更換周期并不是固定的，通常受到以下多種因素的影響：原水水質硬度：若原水硬度高，含有大量鈣、鎂等離子，易在反滲透膜表面形成水垢，降低膜通量和分離性能。如以硬度較高的地下水為原水，反滲透膜可能 1-2 年就需更換，具體取決于鈣、鎂離子濃度和設備預處理情況4.有機物含量：原水中有機物含量高會污染反滲透膜，其可能吸附在膜表面堵塞微孔，或與其他物質反應形成凝膠層。若以含有較多腐
反滲透設備運行過程中常見故障及處理方法
產水量下降原因分析反滲透膜污染：這是產水量下降最常見的原因之一。水中的雜質，如有機物、膠體、微生物等，會在反滲透膜表面形成污垢層，堵塞膜的微孔，從而減少水的透過量。例如，當原水中含有較多的腐殖質時，這些有機物會吸附在膜表面，隨著時間的推移逐漸積累，導致產水量降低。進水壓力不足：高壓泵是為原水通過反滲透膜提供壓力的關鍵設備。如果高壓泵出現故障，如葉輪磨損、密封不嚴等，會導致進水壓力下降，水無法以足夠
軟化水設備作用
防止水垢形成水垢產生原理：水中含有鈣、鎂等離子，在加熱或與其他物質接觸過程中，這些離子會結合形成碳酸鈣（CaCO?）、碳酸鎂（MgCO?）、氫氧化鎂（Mg (OH)?）等沉淀物，這就是水垢。例如，在熱水鍋爐中，當水被加熱時，水中的鈣、鎂離子會在鍋爐內壁逐漸沉積，形成堅硬的水垢。水垢的導熱性很差，會降低熱傳遞效率。據統計，水垢厚度達到 1 - 2 毫米時，燃料消耗會增加 5 - 8%。軟化水設備工作