研發技術

時間：2019-12-18

作者：醴陵市利吉升新材料有限公司

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詞條
詞條說明
淺談半導體靶材
靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱
生產制造
公司2000平方米加工制造中心，先進的加工設備，優化的加工工藝，為客戶快速供貨；公司實行計劃管理，注重過程控制，成品出廠100%檢驗，為客戶制造國際品質的產品；公司根據客戶的需求，承接靶材、非標的設計和制造等服務。
常見的金屬靶材有哪些?
靶材便是快速荷能粒子負電子的總體目標原材料。靶材類型比較多,有金屬類、合金類、金屬氧化物類這些,用的領域也各有不同,運用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?普遍金屬靶材的類型如下所示基本金屬軋材鎂Mg、錳M、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫S、鋁AL小金屬靶材銦I、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd硅化物金屬靶材鈦Ti、鍇Zr、鉿Hf、釩V鈮№b、鉭Ta、銘Cr、鉬M、鎢W、錸
靶材用在什么設備
做金屬材料的靶材，必須真空熔化爐，或是真空燒結爐或氡氣氛圍燒結爐開展制坯；隨后有可能必須鍛錘和軋機開展工作壓力成型生產加工；然后必須真空退火爐開展靶材熱處理工藝；隨后必須超聲波無損檢測設備開展檢驗；必須電鏡、ICP、激光粒度儀、費氏粒度儀、金相顯微鏡以及制樣機器設備等開展有機化學有效成分剖析、金相檢驗、粉末狀粒度分布乃至晶體缺陷剖析。隨后還必須各種車銑數控磨床開展機械加工；最終還必須關聯機器設備和