低溫恒溫槽和循環冷卻水機有什么區別

時間：2020-03-15

作者：北京宏達恒業科技有限公司

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詞條說明
什么叫低溫恒溫循環器？
低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。低溫恒溫循環器提供-40℃~105℃溫度范圍內的高、低恒溫液體，以滿足用高、
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