為什么熔噴布要加裝靜電駐設(shè)備

時間：2020-05-07作者：煙臺金鷹科技有限公司瀏覽：198

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  詞條說明

• 等離子清洗機對金屬表面的清潔

  等離子清洗機對金屬表面的清潔：金屬表面常常會有油脂、油污等有機污染物及氧化層，低溫等離子清洗機，在進行濺射、粘合、焊接、油漆和PVD、CVD涂覆前可以用等離子清洗器處理來得到清潔和無氧化層的表面。等離子清洗機器處理后會得到如下效果：清潔表面有機污染物；去除焊接留下來的助焊劑，防止腐蝕；去除電鍍、粘合、焊接操作時留下的殘留物，增強健合能力。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機

• 等離子清洗機，去除Wafer晶圓光刻膠

  等離子清洗機去除Wafer晶圓表面光刻膠，等離子清洗機用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應(yīng)系統(tǒng)中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產(chǎn)生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發(fā)性氣體狀態(tài)物質(zhì)被抽走。等離子清洗機的去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產(chǎn)品的質(zhì)量等優(yōu)點,而且等離子清洗機不用酸、堿及有機溶劑等。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等

• 等離子清洗機，光刻膠剝離

  等離子清洗機用于清洗晶元（Wafer），去除表面光刻膠。具有高度的均勻性，穩(wěn)定的刻蝕速率。等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時，等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機物，也可以通過等離子活化和粗化作用，對晶圓表面進行處理，能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統(tǒng)的濕式化學(xué)方法，等離子體清洗機干式處理的可控性強，一致性好，并且對基體沒有損害。等離子清洗機有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner

• Plasma Cleaner等離子去膠清洗機在LED封裝制造中的應(yīng)用

  Plasma Cleaner等離子清洗/去膠機是無任何環(huán)境污染的新型清洗方式，是所有清洗方法中最為的剝離式清洗，最大優(yōu)點在于清洗后無廢液，最大特點是不分處理對象的基材類型均可處理，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物及粉體或時顆粒狀材料的等離子表面改性處理，包括：等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學(xué)改性、聚合物植、表面涂覆等。為所處理的材料表面帶來超潔凈、殺菌、提高濕潤性轉(zhuǎn)變，表面