粉末冶金工藝優點（真空管式爐）

時間：2020-08-21作者：鄭州安晟科學儀器有限公司瀏覽：210

鄭州安晟科學儀器有限公司專注于高溫電阻爐,高溫馬弗爐,真空管式爐,高溫升降爐等

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  詞條說明

• 馬弗爐高溫爐高

  馬弗爐高溫爐高 這是比較常見的做法，其優點是結構簡單且成本低廉。但是缺點也很明顯：長期使用時，外殼溫度很高，用戶需要自己連接控制器電路和加熱電路。熱電偶也需要由客戶接線。這需要一定的電路知識和動手能力。這是不小的挑戰。 ?規格參數： 尺寸規格： 400℃-1800℃不同規格尺寸的高溫爐均能制作設計加工。 配備高抽速真空泵一臺，能快速抽空爐內空氣，真空度在短時間內達到狀態。抽真空完成后即

• 真空管式爐常用的真空測量方法

  真空管式爐常用的真空測量方法：一、壓縮式真空計壓縮式真空計，上接一根端封閉的毛細管，下端與“Y”形管的一端口相接，“Y”形管下方接汞儲存器，使用時，將真空系統與“Y”形管口相接，轉動真空計，是汞壓縮氣體，再轉至垂直位置讀取“測量毛細管”與“比毛細管”的液面差，即為所測真空度。壓縮真空計優點在于測量的準確性高，可作為真空計量的標準器。他的缺點是使用不夠方便，反應緩慢，不能連續測量。由于壓縮式真空計

• 1600度程控馬弗爐

  1600度程控馬弗爐 其主要結構由爐殼、爐襯、爐門、通風機構、加熱元件及電爐溫度控制系統等組成。所有電爐均配有溫度控制器，利用測溫用的熱電偶指示調節、自動控制電爐溫度。目前，還沒有專門的箱式電爐測試規范，對電爐的測試主要采用拆分溫控表和傳感器進行分量檢定的方法。 以優質電阻絲為加熱元件,電阻絲分布在爐膛四面加熱；溫控系統面板式操作，采用PID溫控方式，可控硅控制，可設定30段程序編程升溫、保溫、

• CVD管式爐

  產品介紹：該款CVD系統, 可以分為低溫、中溫、高溫三種加熱形式，加熱元件可分為電阻絲(1200℃以下使用)、硅碳棒(1400℃以下使用)、硅鉬棒(1700℃以下使用)等;CVD管式爐由供氣系統、加熱系統、真空系統等組成;1)加熱系統可以分單溫區、雙溫區、三溫區、多溫區等;2)真空系統可分為低真空和高真空，最高限真空可以達到10-4Pa(分子泵組);3)供氣系統是流量調節用戶可選質量流量計或浮子