磁控濺射鍍膜設備的優點和缺點有哪些？

時間：2021-11-09作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：767

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  詞條說明

• 立式濺射鍍膜設備的優勢及應用行業

  立式濺射鍍膜設備的特點： 1、在真空條件下制備鍍膜環境清潔，膜層不易受污染，可獲得致密性好，純度高，膜層厚度均勻，易于控制的涂層。 2、膜材的基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。 3、膜的附著強度高，膜層十分牢固，不易脫落。 4、在工藝過程中不產生廢液，減少環境污染，減少對人體有害的金屬物體，較大程度上實現綠色環保生產。其中之一的汽車行業 該設備的設計為立式雙門的結構，是一款直流磁

• 磁控濺射鍍膜設備

  ? ? ? ? 該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置，其靶位分布可靈活調整，膜層均勻性優越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優點，可有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度，滿足了

• 真空鍍膜設備的環境要求

  ? ? ? ? ? 由于真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。我國制減定的各類真空鍍膜設備的行業標準(包括真空鍍膜設備通用技術條件、真空離子鍍膜設備、真空濺射鍍膜設備、真空蒸發鍍膜設備)都對環境要求作了明確規定。只有滿足了真空鍍膜設備對環境的要求，才能使該設備正常運轉，加上正確的鍍膜工藝，方能生產出合格的鍍膜產品。真空對

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其