等離子清洗機去除微觀污染物

時間：2022-04-09

作者：煙臺金鷹科技有限公司

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詞條
詞條說明
戈德爾等離子刻蝕機在PCB線路板行業去膠渣制程的應用
?等離子體又叫做電漿，是由有些電子被掠奪后的原子及原子被電離后發生的正負電子構成的離子化氣體狀物質，也有稱其為物質的第四相態。等離子體相態是因為原子中激化的電子和分子無序運動的狀況，所以具有適當高的能量。 (1)PCB多層板等離子刻蝕機-機理：在真空室內部的氣體分子里施加能量(如電能)，由加快電子的抵觸，使分子、原子的最外層電子被激化，并生成離子，或反響性高的自由基。如此發生之離子、
為什么熔噴布要加裝靜電駐設備
為什么熔噴布需要加裝靜電駐設備?因為熔噴布熔噴無紡布主要用于過濾粉塵、微生物、霧霾等微米級顆粒物，堪稱口罩的“心臟”。需要表面靜電來吸附粉塵顆粒物來增加過濾效果。外科口罩和N95口罩的核心就是中間的那個夾層——熔噴布。口罩的過濾效率和直徑和填充密度有關。如果織得太密，口罩就不透氣，戴的人就很難受。如果不做靜電駐處理，能讓人感覺不會憋死的熔噴布的過濾效率就只有35%，靜電駐處理設備，即靜電發生
等離子清洗機在電子行業的應用
等離子清洗機在電子通訊行業的應用：等離子體清洗設備對材料表面進行清潔、活化、蝕刻和接枝等作用，增大材料表面能，增強粘結、涂覆、連接的牢固度。等離子清洗機有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機,等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機，等離子表面處理機,電漿清洗機，plasma清洗機，等離子去膠機，等離子清洗設備。等離子清洗機/等離子處理機/等離子處理設備廣泛應用于等離
等離子清洗機，去除Wafer晶圓光刻膠
等離子清洗機去除Wafer晶圓表面光刻膠，等離子清洗機用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發性氣體狀態物質被抽走。等離子清洗機的去膠工藝中具有操作方便、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優點,而且等離子清洗機不用酸、堿及有機溶劑等。等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等