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詞條說明
TCU溫度控制單元主要為反應釜提供冷熱源,廣泛應用于醫(yī)藥、精細化工等領域的加熱、冷卻、保溫、結晶、濃縮、干燥等反應,可以配套兩臺或者多臺反應釜制冷加熱控溫。在控制反應釜溫度的過程中,操作人員往往操作過急,機器處于停機狀態(tài),突然增加攪拌葉輪進行物料反應,造成機體運行負擔。在這種情況下,反應釜攪拌機容易反轉。如果當時沒有機體反轉,會導致攪拌機變形。除變形外,還會導致機體溫度快速升高,破壞機械性能。 在
新能源汽車動力電池冷水機chiller是應用在電池包散熱中的冷卻設備,那么,市面上電池包的冷卻技術有哪些呢? 1、液體冷卻電池技術 這一冷卻技術具備比熱容系數(shù)高以及換熱系數(shù)高的 應用優(yōu)勢,主要是利用液體介質(zhì)實現(xiàn)對動力電池的溫度的有效降低。液體冷卻電池技術所應用的冷卻介質(zhì)主要是液相物質(zhì),如乙二醇、水以及制冷劑等物質(zhì)均可作為制冷劑來達到冷卻效果。液體冷卻電池技術根據(jù)接觸方法的不同可將其細化分為直接冷
反應釜加熱制冷恒溫器是根據(jù)反應釜溫度時間滯后具有非線性、強耦合、不確定性過程的控制需要,提出了一種基于PID控制方法的控溫設備。 反應釜制冷加熱控溫系統(tǒng)產(chǎn)品介紹: 反應釜制冷加熱控溫系統(tǒng)按反應的特性可以分為吸熱反應和放熱反應。一般來說,聚合反應屬于放熱反應,而裂變反應屬于吸熱反應。反應釜的操作流程一般包括預熱、升溫、恒溫、冷卻四個階段。其中恒溫段是反映工藝的關鍵階段,對于產(chǎn)品質(zhì)量和產(chǎn)量有著重要的
頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller在半導體行業(yè)中的應用
隨著科技的飛速發(fā)展,半導體行業(yè)中,頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller作為一種冷卻的設備,發(fā)揮著一定的作用,本文將詳細介紹頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller在半導體行業(yè)中的應用。 一、頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller在半導體行業(yè)中的作用 1、溫度控制 在半導體生產(chǎn)過程中,溫度是一個重要的參數(shù)。頂層介質(zhì)刻蝕單通道chiller作為一種溫度控制設備,能夠準確地控制生產(chǎn)環(huán)境的溫度,確保生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性和產(chǎn)品
公司名: 無錫冠亞恒溫制冷技術有限公司
聯(lián)系人: 劉經(jīng)理
電 話:
手 機: 17715697029
微 信: 17715697029
地 址: 江蘇無錫錫山區(qū)江蘇省無錫市錫山區(qū)翰林路55號
郵 編:
網(wǎng) 址: lneya2022.b2b168.com
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