探針臺精準控制關鍵技術研究

時間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設備有限公司瀏覽：75

鄭州科探儀器設備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說明

• 磁控濺射沉積系統設計

  ?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機

• 快速退火爐系統設計與實現

  快速退火爐是現代大規模集成電路生產工藝過程中的關鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質的、淺結制作、生長高質量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術的飛速發展,開展快速退火爐系統的技術研究,對國內開發和研究具有自主知識產權的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應用**。? ? ? 本文針對現代半導體器件退火工藝

• 濕度和氣體濃度實驗設備產品優勢

  這個帶有濕度控制的氣體濃度發生器具有一系列強大的功能和性能參數，特別適合需要在高濕度和寬范圍氣體濃度中準確控制和檢測的應用。以下是一些關鍵的性能參數和特性：- AI智能控制算法：采用**的AI智能控制算法，能夠在大范圍的氣體濃度比例下準確穩定地控制氣體濕度。- 寬廣的濃度稀釋范圍：該設備的濃度稀釋范圍為1-5000倍，適應各種應用環境。- 高精度流量檢測：流量檢測精度可達到±1% F.S，流量線性

• 恭喜鄭科探突破焦耳熱閃蒸新技術

  焦耳熱閃蒸技術，用于將含碳的廢料轉化為石墨烯材料。原理是利用**高溫環境將高碳含量材料變為石墨。先將這些廢料被磨成粉末，然后用高壓加熱到2000℃（3680°F到4940°F）之間。為了獲得高質量的渦輪狀閃蒸石墨烯，閃蒸時間應保持在30～100 ms之間。這種技術是一種較便宜制造石墨烯的方法，需要的能量也少得多，并可以將生活中廢棄的塑料碎片回收利用。在這項新的研究中，萊斯大學的科學家們已經通過焦耳閃