影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

時間：2022-07-20作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：163

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  詞條說明

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其

• PVD涂層對工件表面的要求

  工件或工具表面的條件對涂層的性能有決定性影響。要想有質量良好的涂層，工件需經研磨或拋光，并針對運輸進行防腐處理。一、研磨的表面不能出現淺裂紋、氧化皮或再硬化燒傷。 二、研磨期間使用的冷卻液不能包含任何磺酸鈣、硼或碘化合物、或含硅的消泡劑。 三、研磨過的表面、用磨刀石磨過的表面、拋光的表面或用磨盤磨過的表面必須沒有研磨劑和殘余物。 四、刀刃必須無毛刺，以便它們不會在**次使用時斷裂。 五、在EDM（

• 真空鍍膜技術及設備

  真空蒸發鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、**的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于工藝美術、裝潢裝飾，燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領域。磁控濺射鍍膜設備及技術可以再金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應物（氧化物、氮化物、炭化物）、

• 真空鍍膜設備價格

  關于真空鍍膜設備價格問題，一直都是大家較關心的。今天，廣東振華科技小編就和大家解答一下，真空鍍膜設備大概多少錢一臺。 真空鍍膜設備價格，也要看工藝，一般來說，蒸發真空鍍膜設備機在15-40萬，多弧離子鍍膜設備在30-120萬，磁控濺射鍍膜設備在60-100萬、工具鍍膜設備在70-100萬。 看了上面的價格，很多小伙伴開始有疑問，為什么真空鍍膜設備價格區間這么大。其實這也是配置決定的。有的品牌真空