廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收

時間：2025-05-21作者：那諾-馬斯特中國有限公司瀏覽：184

那諾-馬斯特中國有限公司專注于磁控濺射系統,刻蝕系統,清洗去膠系統等

• 詞條

  詞條說明

• 詳解磁控濺射技術

  一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使氬氣發生電離（在高壓作用下Ar

• 廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收

  廣西師范大學RIE反應離子刻蝕機順利驗收近日，NANO-MASTER工程師至廣西師范大學，順利安裝驗收NRE-3000型RIE反應離子刻蝕系統！詳細參數：1.? 腔體：10”直徑的圓柱形腔體；陽極氧化鋁材質，抗腐蝕性強；上下蓋設計，氣動升降頂蓋，一鍵實現上蓋的開啟/閉合；淋浴頭設計，較佳的氣流均勻分布2. 樣品臺：4”樣品臺；冷卻功能；偏壓功能，支持各向異性的垂直刻蝕；3. 質量流量控制

• 福州大學離子束刻蝕機順利驗收

  烈日炎炎，熱情滿心間！后疫情時代，NANO-MASTER工程師步履不停，一站接一站為客戶提供設備安裝調試服務。首站福州大學，那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機！性能配置：離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質，z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍，650mA，100-1200V。刻蝕速率：~250A/min對Au；刻蝕均勻度：對4”片，片內均勻性**±

• 恭祝ZN硅業NPE3500型PECVD順利驗收

  近日，NANO-MASTER工程師至浙江ZN硅業有限公司，順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學氣相沉積設備！NANO-MASTER的PECVD系統能夠沉積高質量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可應用于等離子誘導表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據不同應用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規格的離子源。標準樣品臺尺寸有6”和8”可選，較高可定制到1