KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：76

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 上海伯東提供適用于薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)的離子源和真空系統(tǒng)

  ? ? ?在沒(méi)有真空的情況下，可再生能源的發(fā)展是不可能的。以光伏發(fā)電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉(zhuǎn)化方式，通過(guò)太陽(yáng)能電池將太陽(yáng)輻射能轉(zhuǎn)化為電子流，進(jìn)而生成電能。? ? ? ?太陽(yáng)能電池技術(shù)有許多種類，其中一種主要的技術(shù)是基于薄膜沉積。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)在于，它在制造太陽(yáng)能電池時(shí)消耗的材料較

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• HVA 真空閥門(mén)用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術(shù)創(chuàng)新者的真空閥門(mén)(插板閥),?是高真空閥門(mén)的主要制造商和供應(yīng)商.?在設(shè)計(jì)真空系統(tǒng)時(shí),?可以輕松集成?HVA?閥門(mén). HVA?閘閥從5/8英寸（16

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 CVD 設(shè)備檢漏,滿足第三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)

  氦質(zhì)譜檢漏儀?CVD 設(shè)備檢漏, 滿足*三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)上海伯東某客戶是一家以**化合物半導(dǎo)體光電器件相關(guān)產(chǎn)品衍生智造為主業(yè)的創(chuàng)新型科技公司, **產(chǎn)品是物聯(lián)網(wǎng), 5G 通訊, 安防監(jiān)控等*三代半導(dǎo)體芯片. 芯片在生產(chǎn)過(guò)程中使用 CVD 設(shè)備做鍍膜處理, 在鍍膜過(guò)程中需要保持設(shè)備處于高真空狀態(tài), 這就要求腔體的泄漏率不能過(guò) 1E-10 mbrl l/s.CVD?設(shè)備檢漏要