半導(dǎo)體制造及**封裝持續(xù)升溫


            鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司專(zhuān)注于PVD鍍膜設(shè)備,化學(xué)氣相沉積,金剛石涂層等

          • 詞條

            詞條說(shuō)明

          • 叮~鵬城半導(dǎo)體向您發(fā)來(lái)一封會(huì)議邀請(qǐng)函

            2023年*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場(chǎng)研討會(huì)由半導(dǎo)體在線主辦,本屆會(huì)議于2023年3月30-31日在中國(guó)-蘇州合景萬(wàn)怡酒店召開(kāi)。*二屆*三代半導(dǎo)體材料技術(shù)與市場(chǎng)研討會(huì)提供協(xié)同創(chuàng)新的高質(zhì)量交流平臺(tái),推動(dòng)國(guó)內(nèi)三代半導(dǎo)體材料的學(xué)術(shù)研究、技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)發(fā)展,展示業(yè)內(nèi)精英企業(yè),凝聚行業(yè)發(fā)展共識(shí)。在此次會(huì)議,鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng):鵬城半導(dǎo)體)將帶來(lái)納米技術(shù)及**制造設(shè)備跟大家見(jiàn)面,其中包括

          • 化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)-小型管式LPCVD設(shè)備

            LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過(guò)化學(xué)反應(yīng)氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科學(xué)研究、實(shí)踐教學(xué)、小型器件制造。小型管式LPCVD設(shè)備設(shè)備結(jié)構(gòu)及特點(diǎn)1、小型化,方便實(shí)驗(yàn)室操作和使用,大幅降低實(shí)驗(yàn)成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片。基片放置方式:配置三種基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類(lèi)型:不規(guī)則形狀的散片、φ2~4

          • 真空鍍膜機(jī)適用范圍介紹

            真空鍍膜機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域很廣泛,各行各業(yè)都有用到,光學(xué)領(lǐng)域,汽車(chē)裝飾零配件,電子,陶瓷等等,用在不同的行業(yè),真空鍍膜機(jī)名字不一樣,下面詳細(xì)和大家劃分一下類(lèi)目,希望能幫助到大家:1、建筑五金:衛(wèi)浴五金(如水龍頭).門(mén)鎖.門(mén)拉手.衛(wèi)浴、五金合葉、家具,表殼.表帶的鍍膜、水晶制品等,鍍膜是為了提高表面的顏色,我們統(tǒng)稱(chēng)為裝飾真空鍍膜機(jī)。2、用在電子,科技領(lǐng)域,如汽車(chē)激光雷達(dá),抬頭顯示器HUD,電子后視鏡,光學(xué)鏡

          • 半導(dǎo)體制造及先進(jìn)封裝持續(xù)升溫

            得益于政策的有力支持、行業(yè)周期性的變化、創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)的增長(zhǎng)以及國(guó)產(chǎn)替代的加速推進(jìn),從IC設(shè)計(jì)到晶圓制造、封裝測(cè)試,再到設(shè)備材料等多個(gè)細(xì)分領(lǐng)域,國(guó)產(chǎn)化率實(shí)現(xiàn)了顯著提升,標(biāo)志著我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正朝著自主可控的方向穩(wěn)步邁進(jìn)。半導(dǎo)體材料國(guó)產(chǎn)化率仍在進(jìn)一步提升2025年,**半導(dǎo)體產(chǎn)能的年增長(zhǎng)率將達(dá)到6.6%,每月3360萬(wàn)片晶圓,而主流制程產(chǎn)能將實(shí)現(xiàn)6%的增長(zhǎng),達(dá)到每月1500萬(wàn)片。相較于**制程,成熟制程的工

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