plasma設備表面聚合同樣是非常普遍的反應其一

時間：2023-02-28

作者：深圳子柒科技有限公司

詞條
詞條說明
電漿清洗機氫去除SiC表面污染物C和O
SiC該材料是三代半導體材質，具有高臨界擊穿電場、高導熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導體功率器件的*方向，在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導體器件低損耗的優良性能，是**半導體功率器件的*。? ? ? ??但經傳統濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質和表面容易被氧化等缺點，使得在SiC上不容易形成優良的歐姆接觸和低界面態的MOS結
等離子體CMOS工藝中應用于集成電路制造中WAT方法研究
WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導體硅片完成所有的制程工藝后，對硅圓片上的各種測試結構進行電性測試，它是反映產品質量的一種手段，是產品入庫前進行的一道質量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導體技術的發展，等離子體工藝已廣泛應用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損
玻璃等離子表面活化處理等離子玻璃處理機器應用
深圳子柒科技積累了豐富的手機玻璃行業實踐經驗，與多家廠商合作，以提高玻璃的粘接和涂布性能。無論用哪種玻璃，等離子玻璃處理機器等離子處理都使粘接過程較加簡單。? ? ? ? 很難粘上玻璃制品，怎么辦，等離子玻璃處理機器來幫忙！對于很多人而言，把材料粘在玻璃上是一個復雜而困難的過程。但采用玻璃等離子表面活化處理技術可以有效地解決這一問題。?
等離子體處理對金剛石發生Raman散射熒光增強的原因研究
熒光標記對生物醫學生物傳感、材料科學等方面都是非常有效的檢測手段。羅丹明、熒光素、吖啶、菁等傳統的**熒光染料分子易發生團聚(微米級)不易進入細胞。熒光素類標記物易與同類物種間發生能量轉移，隨著標記量增大熒光信號反而降低，導致自猝滅。? ? ? ? 金剛石既發熒光又無光致漂白現象，高生物相容性且、大比表面積，較易于與抗體結合形成熒光標記物進行靶向標記，被廣泛