詞條
詞條說明
電漿清洗機比超聲波清洗機在處理微觀材料表層顯得更環(huán)保
電漿清洗機是1種嶄新的科技創(chuàng)新,使用等離子體高過日常潔凈方式難以高過的功效。等離子體是物質(zhì)的狀態(tài),也稱為物質(zhì)的*四狀態(tài)。在氣體中施加足夠的能量使其分離成等離子。等離子體的“活性”組分包含:離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。電漿清洗機使用這種活性成份的類型處理試樣表層,高過清潔等作用。常壓電漿清洗機可選用多種型號的噴嘴,用于不同場合,以滿足各種不同的產(chǎn)品和處理環(huán)境;小型化的設(shè)備體
基因芯片又稱作寡核苷酸微陣列,它是通過**固相生成技術(shù)或探針固定化技術(shù),將一系列不同序列的寡核苷酸按陣列分布固定在固相載體上?,F(xiàn)階段作為基因微陣列原位生成的載體多以玻璃片和硅單晶,而pp聚丙烯膜、尼龍膜等高分子材料微孔膜,則大多用于點樣法生物芯片的制備,這種膜作為芯片載體熒光背景強,過去必須采用同位素檢測,因而不為人們所青睞。?????  
等離子體刻蝕機清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應用
等離子體刻蝕機是利用高頻輝光放電反應,將反應氣體為原子或游離基等具有活性的粒子,這些活性粒子擴散到需要腐蝕的位置,然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應,形成揮發(fā)性反應物,這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備,是在密閉器皿內(nèi)用進口真空泵達到相應的真空度,隨著氣體的稀薄,分子間隔及分子與離子之間的自由運動距離變長,在電場的作用下碰撞形成等離子體,這些離
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料,它具有介電性能穩(wěn)定,介質(zhì)損耗小,耐潮性好,溫度系數(shù)好等優(yōu)點,具有較其穩(wěn)定的化學性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來,常壓plasma等離子處理
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
電 話:
手 機: 13714491283
微 信: 13714491283
地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
郵 編:
網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
手 機: 13714491283
電 話:
地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
郵 編:
網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com