常見的金屬靶材有哪些？濺射靶材是否希缺資源？

時(shí)間：2022-01-14

作者：醴陵市利吉升新材料有限公司

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詞條
詞條說明
貴金屬靶材是什么？有哪些？
貴金屬靶材是什么？有什么？選用精練、融化煅造、壓延加工或粉未冶金工業(yè)加工工藝生產(chǎn)的半導(dǎo)體元器件、紀(jì)錄新聞媒體顯示器件等的布線和塑料薄膜的貴金屬以及合金的濺射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用以電子器件和規(guī)模性電子器件，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用以磁記錄。輕貴金屬銀、釕、銠、鈀的統(tǒng)稱。相對(duì)密度在10~12/cm中間。重貴金屬金、鋨、銥、鉑的統(tǒng)稱，相對(duì)密度在19~22g/cm3中間。
噴涂鉻管靶
噴涂鉻管靶成型工藝：熱等靜壓、噴涂用途：工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜常規(guī)尺寸：ID125xOD145~155xL?（mm）
工程服務(wù)
售前服務(wù)：專家級(jí)設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)為您解決項(xiàng)目建設(shè)所需的鍍膜材料方案設(shè)計(jì)和咨詢工作，幫您節(jié)約投資和降低能耗；過程服務(wù)：您交付的任務(wù)，我們的專業(yè)管理團(tuán)隊(duì)按照ISO9001的質(zhì)量管理體系，做好每一個(gè)細(xì)節(jié);售后服務(wù)：售后團(tuán)隊(duì)技術(shù)精湛，經(jīng)驗(yàn)豐富。
淺談半導(dǎo)體靶材
靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱

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