常見的金屬靶材有哪些?

時間：2022-02-21作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：902

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  詞條說明

• 銻化鎵靶材

  這種材料能讓你的手機屏幕更清晰 銻化鎵靶材正在改變顯示技術的游戲規則。這種半導體化合物具有獨特的晶體結構，在真空鍍膜過程中能形成均勻致密的薄膜，成為制造高分辨率顯示屏的核心材料。 在薄膜沉積工藝中，銻化鎵靶材展現出驚人的穩定性。其載流子遷移率達到1500cm2/Vs以上，遠高于傳統材料，這使得電子傳輸效率大幅提升。通過磁控濺射技術，可以在玻璃基板上制備出僅有頭發絲千分之一厚度的導電層，且表面粗糙

• 鎢鈦合金靶材

  鎢鈦合金靶材：現代工業的隱形支柱鎢鈦合金靶材正悄然改變著多個高科技領域的生產格局。這種特殊材料在真空鍍膜工藝中展現出不可替代的性能優勢，成為半導體、光伏和顯示面板行業的核心耗材。高密度與耐高溫特性使鎢鈦合金靶材在濺射鍍膜過程中表現卓越。其密度達到普通金屬的2-3倍，熔點超過3000℃，確保在長時間高溫工作環境下仍能保持結構穩定。這種特性直接決定了鍍膜層的均勻性和附著力，對微電子器件的性能產生決定性

• 中山鈦鋁靶報價

  中山鈦鋁靶報價鈦鋁靶材是一種應用廣泛的靶材，在物理蒸發技術以及其他領域中都發揮著重要作用。作為一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料和濺射靶材的公司，我們公司引入了鈦鋁靶材系列產品，并以其高質量、性價比良好的特點贏得了用戶的青睞。作為一種由鈦和鋁元素組成的材料，鈦鋁靶材結合了鈦和鋁的優點，具有高熔點、高強度和耐腐蝕等特性。在機械加工領域，鈦鋁靶材可以為提供抗氧化氮化物涂層，延長的使用壽命；在日用品生產領域

• 鋁錳合金靶材

  鋁錳合金靶材：現代鍍膜工藝的關鍵材料 鋁錳合金靶材是一種廣泛應用于物理氣相沉積（PVD）技術的重要材料，主要用于電子、光學和裝飾鍍膜領域。其獨特的性能使其在薄膜制備過程中占據重要地位。 鋁錳合金靶材的特性 鋁錳合金靶材由鋁和錳按特定比例組成，通常錳含量在1%至10%之間。這種合金具有較高的強度和耐腐蝕性，同時保持了良好的導電性和導熱性。在濺射鍍膜過程中，鋁錳合金靶材能夠形成均勻、致密的薄膜，適用