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硼靶材:現代科技中的關鍵材料 在半導體、光伏、顯示面板等行業中,硼靶材是一種不可或缺的功能性材料。它的主要用途是在物理氣相沉積(PVD)或化學氣相沉積(CVD)工藝中,通過濺射或蒸發的方式在基板上形成薄膜,從而賦予材料特定的電學、光學或機械性能。 硼靶材的制備工藝直接影響其性能。高純度硼粉經過壓制、燒結等工序制成靶材,其致密度、晶粒尺寸和雜質含量都會影響濺射薄膜的質量。為了提高濺射效率,靶材通常
鉬合金靶材:高性能濺射鍍膜的關鍵材料 鉬合金靶材是真空鍍膜領域的核心材料之一,主要用于磁控濺射、離子鍍等工藝。這類靶材通常由鉬與其他金屬元素(如鈦、鋯、鎢等)組成,具備高熔點、低濺射速率和優異的導電性,適用于半導體、顯示面板、太陽能電池等高端制造領域。 **高純鉬靶材的優勢** 鉬合金靶材的純度直接影響鍍膜質量。高純度鉬靶材(純度可達99.95%以上)能減少雜質干擾,確保薄膜的均勻性和導電性能。
半導體核心材料的隱秘王牌在半導體制造領域,有一種材料如同隱形的魔術師,默默操控著電子設備的性能表現。硒化銅靶材以其獨特的物理化學特性,成為薄膜沉積工藝中不可或缺的關鍵材料。這種由銅和硒按特定比例合成的化合物,在真空環境下通過濺射技術,能夠形成均勻致密的薄膜層。硒化銅靶材最顯著的優勢在于其優異的導電性和熱穩定性。在高溫工作環境中,它能保持穩定的晶體結構,不會出現性能衰減。這種特性使其特別適合用于制
珠海鈦鋁靶:高性能材料,廣泛應用珠海鈦鋁靶是一種優質的蒸發靶材,主要由鈦和鋁元素組成。作為一種在物理蒸發技術中被廣泛應用的材料,鈦鋁靶以其高熔點、高強度和耐腐蝕等特性,在多個領域展現出**的性能。**材料特性與制備方法**鈦鋁靶由鈦和鋁元素組成,結合了兩者的優點,具備**的性能特點。它不僅具有高強度和耐腐蝕性,還具備高熔點的特性,適用于高溫工藝應用。制備鈦鋁靶的方法多樣,其中強電流加熱法和大電流裝
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