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金靶材,作為一種重要的材料,被廣泛應用于光學、生物醫學、電子器件和納米技術等領域,具有豐富的應用前景和市場需求。作為生產金靶材的公司,我們致力于提供高質量的金靶材產品,滿足客戶的各種需求。金靶材由于其優越的性能特點在各個領域都有著重要的應用。在光學領域,金靶材以其高反射率、低吸收率和良好的耐腐蝕性能,被廣泛用于制備反射鏡、濾光片以及增透膜等光學元件,為光學設備的性能提升提供了重要支持。在生物醫學領
云浮三氧化鋁靶材:高純度、高密度,**科技云浮三氧化鋁靶材,作為一種高純度、高密度的陶瓷材料,承載著科技發展的使命,在微電子工業、精密光學和表面工程等領域發揮著關鍵作用。隨著科技的不斷進步和應用領域的不斷拓展,三氧化鋁靶材所具有的優異性能必將為相關產業的發展提供強有力的支持。在微電子工業中,三氧化鋁靶材以其高純度和高密度的特性,成為制造高質量薄膜和電子器件的可以選擇材料。通過濺射技術將材料沉積在基
汕尾鉻鋁靶批發價格作為一家生產高屬材料、蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的科技型民營股份制工貿有限公司,我們旨在為客戶提供的鉻鋁靶材產品。鉻鋁靶材作為濺射靶材的重要代表,在表面分析技術和硬質合金工具制造領域有著廣泛的應用。鉻鋁靶材的制備是一個復雜的過程,需要高純度的原料和的技術。一般來說,鉻鋁靶材是由高純度的鉻和鋁元素按一定比例混合而成的。根據客戶的具體需求,我們可以制備不同比例的鉻鋁靶材,以確保產品的質
對濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經歷成膜過程,最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種,總體看,與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld,組分均勻性容易保持,而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射),晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例,因素主要有:靶材與基
公司名: 東莞市鼎偉新材料有限公司
聯系人: 肖先生
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