如何選擇真空鍍膜機

時間：2020-01-05

作者：東莞愛加真空科技有限公司

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氮化鈦(TiN)涂層技術分析
氮化鈦涂層是自PVD技術發明以來，較常見的一種涂層，具有較高的性價比，也是之前運用的較廣泛的一種PVD涂層,它具有較高的薄膜硬度。用磁控濺射方法沉積的氮化鈦沉積速度慢，表面顆粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度較低。用磁控陰極弧的方法沉積的氮化鈦，沉積速度快，但表面顆粒大，所以表面光潔度較差，液滴等表面缺陷也較多，但是可以獲得較高的表面硬度。
Polycold水汽捕集泵品應用領域
Polycold公司擁有優越以及良好的冷卻技術，可應用市場非常廣范- 從半導體(semiconductors),太陽能薄膜制程 (Thin Film Solar Processes),光纖市場(optical networking),平板顯示(flat panel displays),光學鍍膜(Optical Coating、卷繞鍍膜(web coating)，裝飾鍍膜(decorative c
真空鍍膜機真空計知識
真空計：真空計是真空鍍膜設備上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機真空度的重要手段。真空計根據其工作原理可以分為**真空計和相對真空計，**真空計可以直接測量壓強的高低，相對真空計只能間接測量真空度。本文重點介紹鍍膜機器上面常用到的以下幾個真空計：點阻真空計(又叫皮喇尼真空計)：它主要由電熱絲、外殼和支架構成，主要是根據在低壓下，氣體的熱傳導系數與壓強成正比的方式工作的。上面開口處與被測真空系
電子束蒸發和磁控濺射鍍膜區別？
1.兩種鍍膜原理不同：電子束蒸發鍍膜：利用高能電子束轟擊靶材，使材料表面產生很高的溫度，由固態直接升華到氣態，沉積到工件表面所形成的薄膜，主要運用在光學方面(如：眼鏡片的增透膜，CCD鏡頭，光通訊方面等等) 磁控濺射鍍膜：高能離子轟擊靶材，使靶材表面原子飛逸出來的過程稱濺射，那么采用磁場控制后，濺射出來的原子或二次電子以輪擺線的形式被束縛在靶材表面，使得輝光維持而進行濺射，主要運用在裝飾方面(