真空鍍膜過程的均勻性到底多重要？

時間：2020-05-27

作者：昆山世高新材料科技有限公司

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ITO靶材技術及未來前景
據立木信息咨詢發布的《中國ITO靶材市場研究與投資前景報告（2015版）》顯示：ITO（氧化銦錫）靶材是電子信息領域的核心關鍵材料之一，主要用于制造平板液晶顯示器、觸摸屏、薄膜晶體管、太陽能電池透明電極以及多功能玻璃等。? ITO靶材技術一直掌握在日本、韓國等少數企業手中，而中國企業在自主技術的研發上卻一直進展緩慢。目前中國生產的ITO靶材主要供應低端市場；而高端TFT-LCD、觸摸屏
平面ITO靶材
??平面ITO靶材準備中的ITO靶材準備中的銅水路背板綁定完成的ITO成品靶材使用完的ITO靶ITO屬于貴重的陶瓷靶材，質地脆，易碎，綁定過程中操作要小心，尤其要控制其加溫和冷卻溫度速率。
濺射靶材應該如何保養
靶材應該如何保養??一、靶材保養為避免在濺射過程中因為不潔凈的腔體導致短路和起弧，有必要階段性的除去濺射軌道中間及兩側堆積的濺射物，這也有助于用戶可以連續以最大功率密度進行濺射。?二、靶材儲存我們建議用戶將靶材無論是金屬或陶瓷類保存在真空包裝中, 尤其是貼合靶材更需要保存在真空條件下，以避免貼合層氧化影響貼合質量。對于金屬靶材的包裝，我們建議較少需要包裝在潔凈的塑料袋中。三、靶
真空鍍膜過程的均勻性到底多重要？
真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。薄膜均勻性的概念：1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1