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納米二氧化硅拋光液的應用 由于納米二氧化硅成本相對較低,且具有良好的分散性、機械磨損性,高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點,是一種性能優良的CM P技術用的拋光材料.,因而常被用于金屬、藍寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導攝像管等表面精密拋光。 化學機械拋光(CMP)技術是目前各類顯示屏、手機部件、藍寶石、不銹鋼、單晶硅片等領域使用廣泛的表面加工技術,研磨拋光材料是化學機械拋光
納米二氧化鈦處理印染廢水的研究 關鍵詞 納米二氧化鈦 印染廢水光催化降解 VK-TA18 JR05 VK-TA33 宣城晶瑞 摘要:以普通載玻片為基底材料,負載態和懸浮態的納米二氧化鈦(VK-TA18)/普通二氧化鈦被用于處理甲基紅模擬印染廢水,實驗結果表明:納米二氧化鈦(VK-TA18)的脫色效果明顯**普通的二氧化鈦,適當增加負載量和處理時間,負載態的處理效果與懸浮態相當。150 mL模擬印
ZrO2負載Cu催化劑對CO低溫催化氧化研究 用溶膠一凝膠一**臨界干燥法制備了納米二氧化鋯(VK-R30)。采用沉淀法制備納米二氧化鋯負載銅催化劑。研究了催化劑的焙燒溫度和負載比例對CO轉化效率的影響,其焙燒溫度為650℃,Zr與Cu的物質的量比是10:8。獲得催化劑在溫度為68℃具有催化活性,176℃時CO的轉化率達到50%,較好地實現了Zr02負載cu在較低溫度下對CO的催化。 CO氧化反應是
納米二氧化鈦在污水處理中的應用 納米二氧化鈦作為一種重要的光催化材料,由于具有化學性質穩定、高活高等優點 1972年,日本學者Fujishima和Honda在《Nature》上報道了在n型半導體TiO2單晶電極上光致分解H2O產生H2和O2的現象,這一報道使得半導體光催化氧化還原技術,在污水處理等方面的應用受到廣泛關注,并得到了迅速發展。大量研究證實,染料、表面活性劑、**鹵化物、農藥、油類、氰化
公司名: 杭州萬景新材料有限公司
聯系人: 徐進
電 話: 0571-85351209,88852193
手 機: 15867120050,15867120051
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地 址: 浙江杭州西湖區杭州市西湖科技園
郵 編: 310011
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