詞條
詞條說明
冶金涂層方法用于各種工程產(chǎn)品中,以提高它們的抗蝕性,耐磨性,疲勞強度和表面硬度。涂覆的方法有二種,一種是在工件表面上附著一層物質(zhì);另一種是從工件表面向里形成一層不同物質(zhì)的擴散層,該層具有可以測定的濃度梯度,而且和工件的近表面成為一體。這兩種涂層也可以同時存在。例如,目前對高載工件一般是先形成硬的氮化物擴散層,用它來可靠地支持較硬的TiN附著層。許多這樣的冶金涂層正在用物相沉積(PVD)和化學氣相沉
大氣等離子清洗機設(shè)備安裝靈便簡易,可去除塑膠表層的微小積塵
?大氣等離子清洗機設(shè)備安裝靈便簡易,可與智能化生產(chǎn)流水線在線運用。利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的活(化)影響,去除附著在物體表層的污垢。其基本原理:在氧等離子體中的氧原子自由基、刺激性氧分子、電子和紫外光線的相同影響下,油污分子結(jié)構(gòu)后面被氧化變成水和CO2分子結(jié)構(gòu),并從物體表層去除。大氣直噴等離子清洗機廣泛應(yīng)用于玻璃光學、手機制造、印刷、包裝等諸多行業(yè)。? ? &nbs
SiC該材料是三代半導(dǎo)體材質(zhì),具有高臨界擊穿電場、高導(dǎo)熱性、高載流子飽和漂移速度等特點。它是**半導(dǎo)體功率器件的*方向,在高壓、高溫、高頻、抗輻射半導(dǎo)體器件低損耗的優(yōu)良性能,是**半導(dǎo)體功率器件的*。? ? ? ??但經(jīng)傳統(tǒng)濕法處理后的SiC表面存在著殘留有C雜質(zhì)和表面容易被氧化等缺點,使得在SiC上不容易形成優(yōu)良的歐姆接觸和低界面態(tài)的MOS結(jié)
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料,它具有介電性能穩(wěn)定,介質(zhì)損耗小,耐潮性好,溫度系數(shù)好等優(yōu)點,具有較其穩(wěn)定的化學性和電絕緣性。因此,二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性,所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜,這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來,常壓plasma等離子處理
公司名: 深圳子柒科技有限公司
聯(lián)系人: 熊生
電 話:
手 機: 13714491283
微 信: 13714491283
地 址: 廣東深圳寶安區(qū)華宏工業(yè)園A棟
郵 編:
網(wǎng) 址: ziqiplasma.b2b168.com
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