生物領域等離子處理機的應用原理分析

時間：2023-03-07

作者：深圳子柒科技有限公司

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詞條說明
等離子體處理對金剛石發生Raman散射熒光增強的原因研究
熒光標記對生物醫學生物傳感、材料科學等方面都是非常有效的檢測手段。羅丹明、熒光素、吖啶、菁等傳統的**熒光染料分子易發生團聚(微米級)不易進入細胞。熒光素類標記物易與同類物種間發生能量轉移，隨著標記量增大熒光信號反而降低，導致自猝滅。? ? ? ? 金剛石既發熒光又無光致漂白現象，高生物相容性且、大比表面積，更易于與抗體結合形成熒光標記物進行靶向標記，被廣泛
?plasma等離子體能量密度對H2氣氛下C2H6脫氫反應的影響
?plasma等離子體能量密度為860 kJ/mol時，H2添加量對C2H6脫氫反應的影響：隨著H2濃度增加，C2H6轉化率，C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加，這表明H2的加入有利于C2H6轉化及C2H2、C2H4和CH4生成。產生上述結果的可能原因是：一方面氫氣因其導熱性好，可大量傳遞熱量，在乙烷plasma等離子體中起稀釋氣體作用;另一方面氫氣的H-H鍵斷裂能為4.48eV，
等離子體CMOS工藝中應用于集成電路制造中WAT方法研究
WAT(Wafer Accept Test)即硅圓片接收測試，就是在半導體硅片完成所有的制程工藝后，對硅圓片上的各種測試結構進行電性測試，它是反映產品質量的一種手段，是產品入庫前進行的一道質量檢驗。? ? ? ??伴隨著半導體技術的發展，等離子體工藝已廣泛應用于集成電路制造中，離子注入、干法刻蝕、干法去膠、UV輻射、薄膜淀積等都可能會引入等離子體損
plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究
二氧化硅薄膜是一種性能優良的介質材料，它具有介電性能穩定，介質損耗小，耐潮性好，溫度系數好等優點，具有較其穩定的化學性和電絕緣性。因此，二氧化硅在集成電路工藝中的應用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應用的廣泛性，所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜，這就意味著要不斷研發出各種新型的薄膜沉積技術。近年來，常壓plasma等離子處理