PVD真空鍍膜技術(shù)知識問答

時間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：83

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• 小型濺射儀問題解答

  小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問的問題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見的技術(shù)問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術(shù)加上的數(shù)學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監(jiān)測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導磁金屬

• 你并不了解小型濺射儀

  小型濺射儀的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會受到電場和磁場作用，產(chǎn)生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似一條擺線。若為環(huán)形磁場，則電子就

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