磁控濺射鍍膜設備

時間：2022-02-28作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：199

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• 詞條

  詞條說明

• 影響磁控濺射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金屬化合物的形成由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則該化學反應無法繼續進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其

• 磁控濺射鍍膜設備

  ? ? ? ? 該設備集磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置，其靶位分布可靈活調整，膜層均勻性優越，配備不同的靶材，可鍍制出性能較好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優點，可有效提高產品的耐鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度，滿足了

• 真空鍍膜機哪個好

  真空鍍膜機的種類繁多，接下來我們來拿磁控濺射鍍膜機來舉一下例子：該設備集控磁控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性，沉積速率及化合物成份的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統、偏壓系統、離化系統等裝置，其靶位分布可靈活調整；膜層均勻性優越；配備不同的靶材，可鍍制出心梗較好的復合膜層。設備所鍍的制的膜層具有附著力強，致密性高的優點，可有效提高產品的耐鹽霧性，耐磨性及產品表面

• 真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點有哪些？

  真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積，包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經有了高質量的光學薄膜沉積案例，開發了多種光學膜層材料。這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟