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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
氦質譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產上海伯東某客戶是一家以**化合物半導體光電器件相關產品衍生智造為主業的創新型科技公司, **產品是物聯網, 5G 通訊, 安防監控等*三代半導體芯片. 芯片在生產過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態, 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要
模塊式檢漏儀應用于氫能行業真空箱檢漏系統在燃料電池中, 氫氣發生電化學反應以產生電力并為汽車提供動力. 燃料電池發電機, 儲氣罐和配電管線需要密封, 防止發生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產需求, 通常使用自動化真空箱檢漏系統. 上海伯東德國 Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動氦檢漏系統的**部件, 提供可靠, 可重復的泄露檢測, 滿足氫能行業真空
氦質譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現金剛石膜制備微波等離子體化學氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前**上被用于金剛石膜制備的公認方法. MPCVD 裝置將微波發生器產生的微波經波導傳輸系統進入反應器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發下, 在反應室內產生輝光放電, 使反應氣體的分子離化, 產生等離子體, 在基板臺上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某
公司名: 伯東企業(上海)有限公司
聯系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
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