分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：64

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機(jī)OLED 鍍膜機(jī)主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機(jī)性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機(jī)的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達(dá)到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時(shí)需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵

• 模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)

  模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)在燃料電池中, 氫氣發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)以產(chǎn)生電力并為汽車提供動(dòng)力. 燃料電池發(fā)電機(jī), 儲(chǔ)氣罐和配電管線需要密封, 防止發(fā)生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產(chǎn)需求, 通常使用自動(dòng)化真空箱檢漏系統(tǒng). 上海伯東德國(guó) Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動(dòng)氦檢漏系統(tǒng)的**部件, 提供可靠, 可重復(fù)的泄露檢測(cè), 滿足氫能行業(yè)真空

• 美國(guó) KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機(jī)應(yīng)用

  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過(guò)同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3

• HVA 真空閥門71000系列, 適用于苛刻的真空環(huán)境, 易于維護(hù)

  說(shuō)到真空閥門, HVA 是繞不開(kāi)的, HVA 真空閥門是行業(yè)的者. HVA真空閥門包含HVA 真空矩形閥、HVA 真空閘閥, 真空插板閥、HVA 真空角閥等.?在 HVA 真空閥門中 71000 系列閥門, 憑借其在 HVA 閥門中廣為人知的性和性, 使用壽命 > 250,000 cycles 啟閉次數(shù).?HVA?真空閥門?71000 系列由堅(jiān)固的不繡