小型濺射儀問題解答

時間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設備有限公司瀏覽：57

鄭州科探儀器設備有限公司專注于真空探針臺,小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說明

• 小型濺射儀問題解答

  小型濺射儀儀問儀答近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：1、膜厚檢測儀原理：膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測量技術加上的數學算法，進行膜厚的在線鍍膜速率和實時厚度計算。主要應用于MBE、OLED或金屬熱蒸發、磁控濺射設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導磁金屬

• 小型金屬濺射鍍膜機優點

  1、樣品臺旋轉，多樣品同時鍍膜時，鍍膜厚度比較均勻。2、預濺射擋板功能，剛開始鍍膜的時候腔室里會有些雜質，擋板可以保護樣品，提高薄膜質量3、帶有水冷系統，可以長時間濺射鍍膜，厚度可達1微米以上。4、直流磁控濺射，提高附著力，濺射速率快，比離子濺射快上一個量級。針對某些金屬較快能達到1-2納米每秒，5、不但可以電鏡制樣，還可以制作金屬電極。6、可擴展膜厚監測，監測薄膜厚度。濺射儀使用需注1 靶材需要

• 磁控濺射沉積系統設計

  ?針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統,系統包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6 Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機

• 真空探針臺優勢和適用于那些科研

  KT-Z1604T探針臺主要應用于傳感器，半導體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發時間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺的承載臺為60x60不銹鋼臺面，臺面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設計有進氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動，三個方向均可在真空環境下精密移位調節，其中X