核磁共振自旋—自旋弛豫時間T2

時間：2022-06-21作者：蘇州紐邁分析儀器股份有限公司瀏覽：221

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  詞條說明

• cmp研磨液廠家使用低場核磁技術研究CMP拋光液的原位分散性

  cmp研磨液廠家使用低場核磁技術研究CMP拋光液的原位分散性CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing，即化學機械拋光。該技術是半導體晶圓制造的*流程之一，對高精度、高性能晶圓制造至關重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調節劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對分散要求很高的納米材料懸浮液，所以研磨過程中對顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液

• 低場核磁法研究結晶高聚物的溶脹過程

  低場核磁法研究結晶高聚物的溶脹過程溶脹是指溶劑分子擴散進入高分子內部，使其體積膨脹的現象。溶脹行為是高分子材料的一項重要參數，高分子材料的平衡溶脹率會影響到材料中物質的擴散系數，表面潤濕性和機械強度等。很多研宄將溶脹特性作為一個設計參數來制備具有特殊應用的智能材料。溶脹是高分子材料特有的現象，其原因在于溶劑分子與高分子尺寸相差懸殊，分子運動速度相差很大，溶劑分子擴散速度較快，而高分子向溶劑中的擴散

• 粉體潤濕性研究

  粉體潤濕性是什么？粉體潤濕性是指粉體與液體之間的浸潤和濕潤能力。粉體潤濕性的好壞直接影響到粉體在液體中的分散均勻性和可流動性。粉體潤濕性的評價主要包括濕潤角、接觸角等指標。濕潤角是指液滴與粉體表面接觸時形成的接觸線與粉體表面所形成的接觸角度，接觸角是指液滴與粉體表面接觸時形成的接觸線與垂直于粉體表面的線之間的夾角。粉體的潤濕性受到多種因素的影響，包括粉體的表面性質（如表面能、表面電荷）、粉體的結構

• 蘇州紐邁分析亮相第15屆多孔介質磁共振國際會議

  多孔介質磁共振**會議(簡稱MRPM)，是磁共振技術領域的重要**會議之一，1990年發起于意大利博洛尼亞大學。三十多年來，MRPM的足跡遍及**，從意大利到英國、比利時、挪威、德國、法國、美國、新西蘭，再到中國。*15屆多孔介質磁共振**會議在山明水秀的杭州召開，此次會議是MRPM自創立以來，**在中國舉辦。會議采用線上和線下相結合的方式進行，歷時五天（2022年8月21日-26日）。其中8月2