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激光技術與原子能、半導體及計算機一起,是二十世紀較負盛名的四項重大發明。 激光作為上世紀發明的新光源,它具有方向性好、亮度高、單色性好及高能量密度等特點,已廣泛應用于工業生產、通訊、信息處理、醫療衛生、軍事、文化教育以及科研等方面。據統計,從**的光纖到常見的條形碼掃描儀,每年與激光相關產品和服務的市場**高達上萬億美元。中國激光產品主要應用于工業加工,占據了40%以上的市場空間。 激光加工作為
面臨挑戰切割線直徑較細的切割線意味著較低的截口損失,也就是說同一個硅塊可以生產更多的硅片。然而,切割線較細較容易斷裂。荷載每次切割的總面積,等于硅片面積X每次切割的硅塊數量X每個硅塊所切割成的硅片數量?。切割速度切割臺通過切割線切割網的速度,這在很大程度上取決于切割線運動速度,馬達功率和切割線拉力。易于維護性線鋸在切割之間需要更換切割線和研磨漿,維護的速度越快,總體的生產力就越高。生產商
單晶硅片切割技術發展趨勢分析硅片薄片化不僅有效降低了硅材料的消耗,而且體現了硅片的柔韌性,給電池和組件端帶來了更多的可能性。硅片薄片化不僅受切片設備、金剛線、工藝等的限制,還受到電池和組件技術的需求變化。例如,異質結電池(HIT)的對稱結構。低溫或無應力工藝可以完全適應較薄的硅片,其效率不受厚度的影響。即使減少到100μm左右,短路電流ISC的損失也可以通過開路電壓VOC得到補償。切割薄片需要對切
首先,蝕刻需要一塊經過清潔處理并覆上感光膜涂層的金屬板。為了蝕刻出所需的部件形狀,先通過電腦制圖將部件繪圖制印表現于膠片上,它包含非透光區(黑色-將被蝕刻的部分)以及透光區(透明色-免除蝕刻的部分)。膠片對位放置好后,將材料曝光,光線只照到膠片透光區下方的涂層,被照光涂層發生硬化作用,以便于后來顯影液無法溶除該硬化涂層。顯影之后,將蝕刻劑噴至材料表面,或將材料浸于其中。蝕刻劑會將硬化保護層以外的材
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
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