小型金屬濺射鍍膜機(jī)優(yōu)點(diǎn)

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：60

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專(zhuān)注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• PVD制備K型薄膜熱電偶的研究

  熱電偶元件是在工業(yè)、科研中廣泛使用的一種溫度傳感器,具有測(cè)溫范圍廣,堅(jiān)固耐用,無(wú)自發(fā)熱現(xiàn)象,使用方便等優(yōu)點(diǎn)。薄膜熱電偶除了繼承上述普通熱電偶的優(yōu)點(diǎn)外,還具有熱容小,響應(yīng)速度快,幾乎不占用空間,對(duì)被測(cè)物體影響小的優(yōu)點(diǎn)。本研究為制備K型薄膜熱電偶選擇了電子束蒸發(fā)鍍,磁控濺射,多弧離子鍍?nèi)NPVD方法。其中一部分樣片的NiCr/NiSi薄膜均由磁控濺射均由磁控濺射沉積,另一部分樣片的NiCr薄膜由磁控濺

• 探針臺(tái)精準(zhǔn)控制關(guān)鍵技術(shù)研究

  集成電路自動(dòng)化裝備-探針臺(tái)是晶圓測(cè)試領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。由于晶圓片上晶粒很小,達(dá)到微米級(jí),所以要求探針臺(tái)要保持很高的定位精度和運(yùn)動(dòng)精度才能保證探針與晶粒的準(zhǔn)確對(duì)針和測(cè)試。因此,本文主要研究的問(wèn)題是如何保證探針臺(tái)高精密控制,從而達(dá)到微米級(jí)定位要求。? ? ? ?本文來(lái)自于國(guó)家02專(zhuān)項(xiàng)-面向12”晶圓片的全自動(dòng)探針臺(tái)關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺(tái)兩大部分-LO

• PVD真空鍍膜技術(shù)知識(shí)問(wèn)答

  Q1: 什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。?? ? 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,

• 高低溫探針臺(tái)-解釋塞貝克系數(shù)測(cè)量原理及系數(shù)

  塞貝克系數(shù)（Seebeck Coefficient）也稱(chēng)為熱電偶效應(yīng)或Seebeck效應(yīng)，是指兩種不同導(dǎo)體（或半導(dǎo)體）材料在一定溫差下產(chǎn)生熱電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象。塞貝克系數(shù)是研究熱電材料（將熱能轉(zhuǎn)化為電能的材料）非常重要的一個(gè)參數(shù)，它用來(lái)衡量材料在一定溫差下產(chǎn)生的熱電壓。?塞貝克系數(shù)的測(cè)量方法有很多種，其中一種常用的方法是恒流法。首先準(zhǔn)備一個(gè)熱電偶，它由兩種不同材料的導(dǎo)線組成。然后將熱電偶的其中