微電容單通道叉指電極真空探針臺(tái)用途介紹

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：73

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 真空探針臺(tái)優(yōu)勢(shì)和適用于那些科研

  KT-Z1604T探針臺(tái)主要應(yīng)用于傳感器，半導(dǎo)體，光電，集成電路以及封裝的測(cè)試。 廣泛應(yīng)用于復(fù)雜、高速器件的精密電氣測(cè)量的研發(fā)，旨在確保質(zhì)量及可靠性，并縮減研發(fā)時(shí)間和器件制造工藝的成本。??? 該探針臺(tái)的承載臺(tái)為60x60不銹鋼臺(tái)面，臺(tái)面較高可升溫到較高350℃。真空腔體設(shè)計(jì)有進(jìn)氣口和抽真空接口。探針臂為X/Y/Z三軸移動(dòng)，三個(gè)方向均可在真空環(huán)境下精密移位調(diào)節(jié)，其中X

• 小型濺射儀問(wèn)題解答

  小型濺射儀儀問(wèn)儀答較近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁

• 質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償

  質(zhì)量流量計(jì)為何要進(jìn)行穩(wěn)壓補(bǔ)償常用的流量計(jì)大多只能夠直接測(cè)量流體的體積，并不能直接測(cè)量質(zhì)量，如果只測(cè)量流體在當(dāng)前工況下的體積時(shí)，質(zhì)量流量計(jì)儀表可以直接顯示出來(lái)。但是如果要求流量計(jì)顯示為流體質(zhì)量時(shí)，需要通過(guò)計(jì)算即時(shí)采樣的流體體積參數(shù)與密度參數(shù)相乘的積而得出(質(zhì)量=密度X體積)而并非直接測(cè)量出流體的質(zhì)量。質(zhì)量流量計(jì)作為流量?jī)x表，它測(cè)量出來(lái)的數(shù)據(jù)一定要準(zhǔn)確，如果要測(cè)量流體的質(zhì)量時(shí)就涉及到一個(gè)問(wèn)題：就是流體

• 小型濺射儀問(wèn)題解答

  小型濺射儀儀問(wèn)儀答近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁金屬