磁控濺射技術(shù)原理及應(yīng)用簡(jiǎn)介

時(shí)間：2023-10-07作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：98

鄭州科探儀器設(shè)備有限公司專(zhuān)注于真空探針臺(tái),小型離子蒸鍍儀,小型離子濺射儀等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 小型濺射儀問(wèn)題解答

  小型濺射儀儀問(wèn)儀答較近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上**的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線(xiàn)鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳 ?但是 鎳是導(dǎo)磁

• 微電容單通道叉指電極真空探針臺(tái)用途介紹

  叉指微電極因其微小的電極間距結(jié)構(gòu)，可用于各種小型化傳感器。對(duì)于傳統(tǒng)分析，包括色譜法、光譜法、質(zhì)譜等方法，大多都需要昂貴的儀器和多種操作步驟，使得許多實(shí)際問(wèn)題仍面臨困難。開(kāi)發(fā)高靈敏度、、小型化的傳感器尤為重要。本文綜述了叉指微電極的研究進(jìn)展，介紹了基于叉指微電極的傳感器在各領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。?小型真空探針臺(tái)鄭科探?KT-Z4019MRL4T是一款性高價(jià)比配置的真空高低溫探針臺(tái)。高溫

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  快速退火爐是現(xiàn)代大規(guī)模集成電路生產(chǎn)工藝過(guò)程中的關(guān)鍵裝備? ? ?主要用于離子注入后雜質(zhì)的、淺結(jié)制作、生長(zhǎng)高質(zhì)量的氧化膜層和金屬硅化物合金形成等工藝。隨著集成電路工藝技術(shù)的飛速發(fā)展,開(kāi)展快速退火爐系統(tǒng)的技術(shù)研究,對(duì)國(guó)內(nèi)開(kāi)發(fā)和研究具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的快速退火爐裝備,有著十分重要的理論意義和工程應(yīng)用**。? ? ? 本文針對(duì)現(xiàn)代半導(dǎo)體器件退火工藝

• 探針臺(tái)精準(zhǔn)控制關(guān)鍵技術(shù)研究

  集成電路自動(dòng)化裝備-探針臺(tái)是晶圓測(cè)試領(lǐng)域研究的熱點(diǎn)。由于晶圓片上晶粒很小,達(dá)到微米級(jí),所以要求探針臺(tái)要保持很高的定位精度和運(yùn)動(dòng)精度才能保證探針與晶粒的準(zhǔn)確對(duì)針和測(cè)試。因此,本文主要研究的問(wèn)題是如何保證探針臺(tái)高精密控制,從而達(dá)到微米級(jí)定位要求。? ? ? ?本文來(lái)自于國(guó)家02專(zhuān)項(xiàng)-面向12”晶圓片的全自動(dòng)探針臺(tái)關(guān)鍵技術(shù)研究。首先,本文介紹了探針臺(tái)兩大部分-LO