HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機

時間：2023-05-23作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：59

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• HVA 高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統或低溫泵

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• 殘余氣體分析儀應用于高溫真空爐, 實現質量保證和過程優化

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