KRI 離子源應用于舞臺燈光濾光片鍍膜

時間：2024-01-10作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：58

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  詞條說明

• 上海伯東 HVA 真空插板閥應用于半導體管道中

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空插板閥在半導體管道中的應用半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統 ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環節,

• HVA 真空閥門用于太陽能電池生產

  HVA真空閥門用于太陽能電池生產?太陽能電池又稱為 ”太陽能芯片” 或 ”光電池”, 是一種利用太陽光直接發電的光電半導體薄片. 它只要被滿足一定照度條件的光照到, 瞬間就可輸出電壓及在有回路的情況下產生電流. 在物理學上稱為太陽能光伏（Photovoltaic, 縮寫為PV）, 簡稱光伏.太陽能電池是通過光電效應或者光化學效應直接把光能轉化成電能的裝置. 以光伏效應工作的晶硅太陽能電池

• HVA 真空閥門 11000 用在 OLED 鍍膜機

  國內某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??閥門材質:?-?閥門主體?304&

• KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用

  上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發系統, PLD 脈沖激光系統等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污