KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

時間：2024-01-10作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：111

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  詞條說明

• KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制

  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產

• 上海伯東KRI離子源在半導體材料中的預清洗及刻蝕應用

  半導體材料（semiconductor material）是一類具有半導體性能（導電能力介于導體與絕緣體之間，電阻率約在1mΩ·cm～1GΩ·cm范圍內）、可用來制作半導體器件和集成電路的電子材料。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。?本文主要介紹上海伯東KRI離子源在半導體材料SiO2中的預清洗及刻

• 振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應用|上海伯東代理英國進口Nano

  振動樣品磁強計 VSM 磁滯回線測試應用 上海伯東代理英國 NanoMagnetics 儀器振動樣品磁強計 VSM 主要用于測量塊狀, 粉末, 薄片, 單晶和液體各種材料的測量. 振動樣品磁強計 VSM 可完成磁滯回線, 起始磁化曲線, 退磁曲線及溫度特性曲線, IRM 和 DCD 等曲線的測量. 搭配不同的高低溫選件可進行磁化數據的溫度函數的測量, 測定居里溫度點等. 上海伯東代理英國 Nano

• HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室