KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

時間：2024-01-10作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：41

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• 上海伯東 HVA 真空插板閥應用于半導體管道中

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空插板閥在半導體管道中的應用半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統 ( 真空管路 ) 的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或**高真空的氣體輸送環節,

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  國內某?OLED?鍍膜機廠家配置伯東美國?HVA?真空閥門?11000?系列，尺寸以?4”, 6”, 8”閥門口徑為主的標準不銹鋼氣動高真空閘閥,?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術規格:??閥門材質:?-?閥門主體?304&

• 氦質譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現金剛石膜制備

  氦質譜檢漏儀 MPCVD 檢漏, 實現金剛石膜制備微波等離子體化學氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前**上被用于金剛石膜制備的公認方法. MPCVD 裝置將微波發生器產生的微波經波導傳輸系統進入反應器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發下, 在反應室內產生輝光放電, 使反應氣體的分子離化, 產生等離子體, 在基板臺上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某

• 分子泵組應用于低溫真空探針臺

  Pfeiffer?分子泵組應用于低溫真空探針臺真空探針臺一般用于復雜, 高速精密器件進行表面觀測以及各種性能測試的儀器, 通過測試可以產品的質量和性并縮減研發時間和器件制造工藝的成本. 探針臺主要應用于半導體行業, 光電行業, 集成電路以及封裝的測試為什么需要真空環境?1. 真空探針臺通過搭配分子泵組, 配合真空吸附卡盤及真空吸附探針座的使用, 通過空氣壓縮, 固定樣品及探針座.2. 由