HVA 真空閥門用在氣體管路系統

時間：2024-01-11

作者：伯東企業（上海）有限公司

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詞條說明
氦質譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測
氦質譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產研發多工位高真空和高真空排氣臺, 實現多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統在內的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經過上海伯東推薦真空系統**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質譜檢漏儀 ASM 340D?
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220濺射沉積 ZrAlN薄膜
合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備
??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學鍍膜技術在光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜,?實現可見光區（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學濾光片,?主要應用于可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數碼成像領域,?用于紅外光線對?CCD/CM
KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制
? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產