美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應用

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：108

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  詞條說明

• 分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗

  Pfeiffer?分子泵組玻璃封管抽真空進行金屬燒結試驗上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 成功應用于玻璃封管抽真空, 進行金屬燒結試驗, 主要應用如下:系統真空度要求: 10-4 mbar1. 玻璃管內放置金屬材料2. 利用分子泵組提供穩定的真空, 封住玻璃管, 抽走多余的空氣和水汽, 減少水, 氧, 氮等氣體對燒結的不良影響, 然后對

• HVA 真空插板閥（真空閥門）用于激光真空系統

  因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國HVA帶孔真空插板閥（真空閥門）真空閘閥廣泛用于激光真空系統伯東公司代理美國HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統HVA Gate Valve在激光真空系統上的應用伯東企業（上海）有限公司, 為美國HVA 真空閥門在中國境內的代理商, 并負責HVA Valve 真空閥門在中國地區的銷售

• 上海伯東美國 HVA 真空插板閥在半導體管道中的應用

  半導體后端工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體,氣體管路系統(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下穩定的供應到工藝設備內. 上海伯東美國 HVA?插板閥廣泛用于高真空或高真空的氣體輸送環節,?用來改變氣流方向,?調節氣流量大小,?切斷或接通管路,?起到真空隔離密封等作用. 美國 HVA&nb

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點, 是激光設備應用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在