KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：49

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• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣

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  合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素，能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。?北京某大學實驗室在對硬韌 ?ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東?KRI?考夫曼射頻離子源?RFCIP220? 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n

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  氦質(zhì)譜檢漏儀高溫真空燒結(jié)爐氣密性泄露檢測某客戶生產(chǎn)汽車過濾網(wǎng), 因高溫真空燒結(jié)爐氣密性不佳, 導致生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料出現(xiàn)氧化質(zhì)量問題, 經(jīng)過上海伯東推薦, 選用氦質(zhì)譜檢漏儀?ASM 340W 對真空燒結(jié)爐進行檢漏, 真空模式下, 漏率 5X10-10?mar l/s. 經(jīng)過檢漏后的真空爐, 生產(chǎn)出的過濾網(wǎng)材料無氧化, 達到客戶工藝要求.高溫真空燒結(jié)爐氦質(zhì)譜檢漏法:金屬 (粉末)