KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

時間：2024-01-12作者：伯東企業（上海）有限公司瀏覽：120

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• KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制

  ? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產

• 分子泵組應用于脈沖激光沉積系統 PLD

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• KRI 離子源用于離子束拋光機

  ?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對象的非接觸式修形及拋光,?精度可達亞納米級,?被譽為拋光.?離子束拋光機的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學元器件設備制造商,?主要產品為離子束拋光機、磁流變拋光機等,?提供精密光學工藝制造研發服務,?是一家精密光學元器件解

• 美國 HVA 真空閥門選型

  上海伯東美國?HVA 真空閥門選型實例產品系列特點口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列