KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

時間：2024-01-12

作者：伯東企業（上海）有限公司

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上海伯東 Pfeiffer 普發分子泵維修保養服務
上海伯東是德國普發 Pfeiffer 授權銷售維修中心, 自 2002年以來, 已累計為過 100, 000+ 家企業提供維修保養服務, 客戶遍布工業, 科研, 鍍膜和半導體行業, 維修中心使用 100 ％ Pfeiffer 原廠部件和原裝進口檢測設備對維修產品做全方面的性能測試, 上海伯東擁有完全的拆解, 維修能力, 提供快速, 高質量的維修保養服務.?伯東公司在上海,?臺
HVA 真空閥門應用于E-Beam 鍍膜機
某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空,?只要對泵內部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設備組成:?系統主要由蒸發室,?電子,?進樣室
KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制
? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產
KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜
硅薄膜作為薄膜太陽能電池的材料越來越引起人們的重視, 非晶硅薄膜太陽能電池由于存在轉換效率低和由 S-W 效應引起的效率衰退等問題, 而微晶硅薄膜具有較高電導率、較高載流子遷移的電學性質及優良的光學穩定性, 可以克服非晶硅薄膜的不足, 已成為光伏領域的研究熱點.?采用磁控濺射沉積硅薄膜不需要使用 SiH4 等有毒氣體及相應的尾氣處理裝置, 有利于降低設備成本, 且工藝參數控制, 因此經過