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2022年8月15日-18日,2022十七屆全國MOCVD學術會議選擇在中國·太原·湖濱國*際大酒店舉行。金屬**化學氣相淀積(MOCVD)技術自二十世紀六十年代提出以來,取*得了飛速進步,已經廣泛應用于制備III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半導體材料及其**結構,較*大地推動了光電子器件和微電子器件與芯片的發展及產業化,也成為半導體**晶格、**阱、**線、**點結構材料及相
鵬城半導體技術(深圳)有限公司,由哈爾濱工業大學(深圳)、北京琨騰科技有限公司以及有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于技術*與市場*的交叉點,尋求創新**與可持續發展,解決產業的痛點和國產化難題,爭取產業鏈的自主可控。公司**業務是半導體材料、工藝和裝備的研發設計、生產制造。公司人才團隊知識結構完整,有以哈工大教授和博士為**的高水平材料研究和工藝研究團隊;還有來自工業界的**裝
等離子體化學氣相沉積設備有兩種:其一是PCVD(等離子體一般化學氣相沉積),另一個是PECVD(等離子體增強化學氣相沉積),它們都是在20世紀70年代發展起來的鍍膜工藝。其特點是:1、在不同基片上制備各種金屬膜、**物聚合膜、非晶態無機物膜;2、等離子體清洗基材,使膜層的附著力增加;3、可制備厚膜,內應力小、致密性好、針孔小、膜層成分均勻、不易產生微裂紋;4、低溫成膜,溫度對基材沒什么影響,避免了
【前言】金剛石是自然界已發現的具有較高的硬度、強度、耐磨性材料,金剛石具有的熱導率、透過波段、聲速以及半導體特性和化學惰性等綜合性能使其成為當今世界上較優秀的*材料。上世紀80年代初期通過化學低壓氣相沉積生成金剛石薄膜(CVD)技術**突破性進展,經過多年的研究發展,CVD金剛石生長技術已日漸成熟。目前已有四種形態的CVD金剛石產品進入市場,它們是:1)純多晶金剛石厚片 2)涂層金剛石;3)大
公司名: 鵬城半導體技術(深圳)有限公司
聯系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區3號樓304
郵 編:
網 址: pcs2021.b2b168.com
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