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KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用
上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸
分子泵組與紅外光譜儀聯(lián)用進行工業(yè)催化材料分析上海伯東德國 Pfeiffer 經濟型分子泵組?Hicube 80 Eco 可搭配紅外光譜儀共同使用, 進行工業(yè)催化的材料分析. 上海伯東客戶某大學實驗室, 采用浸漬法進行試驗, 為了提高浸漬量, 需要保證在真空環(huán)境下進行, Pfeiffer?分子泵組?Hicube 80 Eco 是前級泵和分子泵的結合, 體積小巧, 即插即
因產品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵
因產品配置不同,價格貨期需要電議,圖片僅供參考,一切以實際成交合同為準。美國 HVA?真空閘閥在氣體管路系統(tǒng)應用半導體工廠, 太陽能光伏, LED, 鍍膜等行業(yè)在工藝制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊氣體, 氣體管路系統(tǒng)(真空管路)的作用是把各種氣體在滿足工藝制程要求的純度, 壓力和流量的前提下安全穩(wěn)定的供應到工藝設備內. 美國 HVA?真空閘閥廣泛用在氣體輸送環(huán)
公司名: 伯東企業(yè)(上海)有限公司
聯(lián)系人: 葉南晶
電 話: 021-50463511
手 機: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦東高橋上海浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室
郵 編:
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