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鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石設備亮相碳基半導體材料產業發展論壇
世界范圍的信息化浪潮正帶來**網絡化、國家數字化、社會智能化的整體轉變,5G、人工智能、大數據和云計算等**技術的誕生和蓬勃發展,以及向生產生活各層面的深度滲透,較加速推動信息時代的快速發展。在世界數字化洶涌前行的背后,是硅基半導體芯片能的持續飛速提升,提供了存儲、運算、網絡、智能的多維度底層支撐,為數字升級、智能互聯打造了堅實的硬件基礎。但隨著芯片制造工藝在納米尺度逐漸逼近物理極限,硅基半導體芯
1、真空鍍膜行業技術水平及特點多功能磁控濺射儀(高真空磁控濺射鍍膜機)-鵬城半導體真空鍍膜是表面處理技術的一項分支,是指為了減少雜質的干擾,在高度真空環境下,通過物理或化學手段,將金屬、非金屬或化合物材料(膜材)轉換成氣態或等離子態,并沉積于玻璃、金屬、陶瓷、塑料或**材料等固體材質(簡稱基材、基板或基片)表面形成薄膜的過程。利用真空鍍膜技術鍍制薄膜后,可使材料表面獲得新的復合性能并實現新型的工程
CITE2023 |鵬城半導體攜熱絲CVD金剛石等全系列方案亮相,備受矚目
2023年4月9日,為期三天的*十一屆中國電子信息博覽會(英文簡稱:CITE2023)在深圳福田會展中心圓滿落幕。? ? ? ? ? ? ??左一(黑龍江副省長-王嵐女士)左二(鵬城半導體 董事 吳向方教授)本屆展會上鵬城半導體攜帶多功能磁控濺射、熱絲CVD金剛石、分子束外延系統MBE等多個解決方案亮相,現場人潮涌動,
LPECVD是在低壓高溫的條件下,通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。小型管式LPCVD設備設備結構及特點1、小型化,方便實驗室操作和使用,大幅降低實驗成本兩種基片尺寸2英寸或4英寸;每次裝片1~3片。基片放置方式:配置三種基片托架,豎直、水平臥式、帶傾角。基片形狀類型:不規則形狀的散片、φ2~4
公司名: 鵬城半導體技術(深圳)有限公司
聯系人: 戴朝蘭
電 話:
手 機: 13632750017
微 信: 13632750017
地 址: 廣東深圳南山區留仙大道3370號南山智園崇文園區3號樓304
郵 編:
網 址: pcs2021.b2b168.com
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