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詞條說明
硅片切割一般有什么難點?1、雜質(zhì)線痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過程中無法完全去除,導致硅片上產(chǎn)生相關線痕。2、劃傷線痕:由砂漿中的SIC大顆粒或砂漿結塊引起。切割過程中,SIC顆粒“卡”在鋼線與硅片之間,無法溢出,造成線痕。表現(xiàn)形式:包括整條線痕和半截線痕,內(nèi)凹,線痕發(fā)亮,較其它線痕較加窄細。3、密布線痕(密集型線痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機砂漿回路系統(tǒng)問題,造成硅片上出現(xiàn)密集線痕區(qū)
介紹半導體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴格清洗。微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括**物和無機物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。**污染包括光刻膠、**溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維。無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導;堿金屬如鈉等,引起嚴重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌
光纖激光產(chǎn)品特點·高配置:采用進口光纖激光器,光束質(zhì)量較好(標準基模)、切縫較細(30μm)、邊緣較平整光滑。·免維護:整機采用**標準模塊化設計,真正免維護、不間斷連續(xù)運行、無消耗性易損件更換。·操作方便:設備集成風冷設置,設備體積較小,操作較簡單。·**控制軟件:專為激光劃片機而設計的控制軟件,操作簡單,能實時顯示劃片路徑。·工作效率高:T型臺雙工位交替運行,提高工作效率.較大劃片速度可達20
我公司現(xiàn)擁有紫外納秒、綠光納秒、紅外納秒、綠光皮秒等多種激光光源設備,擁有準直聚焦系統(tǒng)、振鏡聚焦系統(tǒng)等多種光學平臺,可配合客戶參與研發(fā)。我公司擁有**過1000平米的萬級潔凈實驗室和生產(chǎn)車間,一支經(jīng)驗豐富的技術開發(fā)和管理團隊,和**過30臺包括紫外激光器,**快激光器,光纖激器,二氧化碳激光器等**進口激光精密切割打孔設備,以及配套的加工平臺,公司還擁有包括3D顯微鏡,激光干涉儀,紅外熱成像儀,二次元等
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
電 話: 010-83687269
手 機: 18920259803
微 信: 18920259803
地 址: 北京豐臺花鄉(xiāng)北京市豐臺區(qū)南三環(huán)玉泉營橋西春嵐大廈1號樓2單元102室
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網(wǎng) 址: wb410782.cn.b2b168.com
公司名: 北京華諾恒宇光能科技有限公司
聯(lián)系人: 張經(jīng)理
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地 址: 北京豐臺花鄉(xiāng)北京市豐臺區(qū)南三環(huán)玉泉營橋西春嵐大廈1號樓2單元102室
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